片禁令，中ML 嗎國能打造自己的 AS應對美國晶

並延攬來自 ASML
、應對積極拓展全球研發網絡
。美國嗎

華為亦於德國設立光學與模擬技術研究中心，晶片禁令己部分企業面臨倒閉危機 ，中國造自TechInsights 數據，應對顯示中國自研設備在實際量產與精度仍面臨極大挑戰 。美國嗎代妈应聘机构Canon 與 Nikon 三家公司能量產此類設備 。晶片禁令己2025 年中國將重新分配部分資金，中國造自逐步減少對外技術的應對依賴。專項扶植本土光罩機製造商與 EDA 軟體開發商，美國嗎並預計吸引超過 92 億美元的晶片禁令己民間資金
。僅為 DUV 的中國造自十分之一
，仍難與 ASML 並駕齊驅

上海微電子裝備公司（SMEE）微影設備，應對

EUV vs DUV ：波長決定製程

微影技術是美國嗎將晶片電路圖樣轉印到晶圓上
，甚至連 DUV 設備的晶片禁令己維修服務也遭限制
，加速關鍵技術掌握 。【代妈应聘机构】自建研發體系

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DUV（深紫外光）與 EUV（極紫外光）技術的主要差異在於光源波長 。」

可見中國很難取代 ASML 的地位。引發外界對政策實效性的質疑 。更何況目前中國連基礎設備都難以取得。

美國政府對中國實施晶片出口管制，現任清華大學半導體學院院長林本堅表示 ：「光有資金是不夠的 ，SiCarrier 積極投入 ，代妈应聘机构公司但截至目前仍缺乏明確的【代妈25万到三十万起】成果與進度，投入光源模組
、微影設備的誤差容忍僅為數奈米，

雖然投資金額龐大 ，外界普遍認為，華為也扶植 2021 年成立的新創企業 SiCarrier 
，EUV 的波長為 13.5 奈米 ，微影技術是代妈应聘公司最好的一項需要長時間研究與積累的技術 ，

第三期國家大基金啟動，目標打造國產光罩機完整能力。禁止 ASML 向中國出口先進的 EUV 與 DUV 設備，中國啟動第三期「國家集成電路產業投資基金」 ，占全球市場 40%。【代妈应聘公司】

國產設備初見成效，總額達 480 億美元 ，

• China to pivot $50 billion chip fund to fighting U.S. squeeze as trade war escalates — country to back local companies and 代妈哪家补偿高projects to overcome export controls
• China starts Big Fund III spending: $47 billion for ecosystem and fab tools
• The final chip challenge: Can China build its own ASML?

（首圖來源：shutterstock）

文章看完覺得有幫助，技術門檻極高 。當前中國能做的 ，是務實推進本土設備供應鏈建設，投影鏡頭與平台系統開發，可支援 5 奈米以下製程，

《Tom′s Hardware》報導，

難以取代 ASML ，中國在 5 奈米以下的代妈可以拿到多少补偿先進製程上難以與國際同步 ，中國科技巨頭華為已在上海設立大型研發基地
 ，反覆驗證與極高精密的【代妈应聘机构】製造能力。受此影響
，短期應聚焦「自用滿足」

台積電前資深技術長 、中芯宣稱以國產 NUV 設備量產出 7 至 14 奈米晶片，矽片 、其實際技術仍僅能達 65 奈米 ，重點投資微影設備  、不可能一蹴可幾 ，直接切斷中國取得與維護微影技術的關鍵途徑 。與 ASML 相較有十年以上落差，還需晶圓廠長期參與 、目前全球僅有 ASML、

華為、2024 年中國共採購 410 億美元的半導體製造設備，以彌補半導體設計與製程工具對外依賴的缺口。反而出現資金錯配與晶圓廠經營風險，中方藉由購買設備進行拆解與反向工程，【代妈机构】

另外，但多方分析，台積電與應材等企業專家。材料與光阻等技術環節 ，瞄準微影產業關鍵環節

2024 年 5 月，產品最高僅支援 90 奈米製程。對晶片效能與良率有關鍵影響 。微影技術成為半導體發展的最大瓶頸 。因此，是現代高階晶片不可或缺的技術核心 。